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v液体光致抗蚀剂感光的有效波长为300—400nm，因此对干膜和液体光致阻焊剂进行曝

光的设备亦可适用于湿膜曝光，曝光量100—300mJ／平方里米。

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因为烘烤后膜层的硬度还不足1H，因此曝光对位时需特别小心，以防划伤。虽对湿膜适用

的曝光量范围较宽，但为了增加膜层的抗蚀和抗电镀能力，以取高限曝光为宜。其感光速度与干膜相比要慢得多，所以要使用高功率曝光机。

v

当曝光过度时，正相导线图形易形成散光侧蚀，造成线宽减小，反之负相导线图形形成散 光扩大，线宽增加。当曝光不足时，膜层上出现针孔、砂眼等缺陷。

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2、与单片集成电路的比较

?由于用于设计和工模具的固定成本更低，适合于中小批量产品生产。

?设计更改容易。

?出样周期短，能尽快投产。

?可选用高性能元器件(基片和外贴元器件)，例如；±0．1％电阻器、 ± 1％电容器、低TCR齐 纳二极管。

?能将不同工艺的元器件混合组装，金属厚膜电路，使设计灵活性更好。

?允许返工，便于以合理的成品率生产复杂的电路，并且允许适当的返修。

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